Samsung Electronics сообщила, что ее новая передовая линия по производству полупроводников в Хвасоне, Корея, начала массовое производство.
Эта установка, V1, является первой производственной линией Samsung по производству полупроводников, посвященной технологии литографии в экстремальных ультрафиолетовых лучах (EUV), и производит чипы с использованием технологического узла длиной 7 нанометров (нм) и ниже. Линия V1 начала работу в феврале 2018 года и начала тестовое производство во второй половине 2019 года. Ее первые продукты будут доставлены клиентам Samsung в первом квартале.
«Наряду с технологическим лидерством и проектной инфраструктурой, совершенство производства является одним из важнейших элементов литографии», — сказал д-р Е.С. Юнг, президент Samsung Electronics. «По мере увеличения производства линия V1 расширит нашу способность реагировать на рыночный спрос и расширит возможности для поддержки наших клиентов».
Линия V1 в настоящее время производит мобильные микросхемы с технологией 7 и 6 нм и будет продолжать применять более тонкие схемы вплоть до узла 3 нм.
К концу 2020 года совокупный общий объем инвестиций в линию V1 достигнет 6 миллиардов долларов США в соответствии с планом Samsung, а общая мощность от 7 нм и ниже, как ожидается, утроится по сравнению с 2019 годом. Вместе с линией S3 Ожидается, что линия V1 сыграет ключевую роль в реагировании на быстрорастущий спрос на мировом рынке литейных технологий для одноразрядных узлов.
По мере того как геометрия полупроводников становится меньше, внедрение технологии литографии EUV становится все более важным, поскольку оно позволяет уменьшать сложные рисунки на пластинах.
В настоящее время Samsung имеет шесть литейных линий в Южной Корее и США, в том числе пять 12-дюймовых линий и одну 8-дюймовую линию.
Источник: