Компания начала строительство новой линии по производству чипов на своем заводе в Пхёнтхэке, Южная Корея, сообщили представители Samsung в четверг.
По словам Samsung, новая линия будет использовать ультрафиолетовую литографию (EUV) для изготовления чипов по 5 нанометровой технологии или меньше.
Южнокорейский технологический гигант начнет полноценную эксплуатацию в 2021 году и будет производить чипы для 5G, высокопроизводительных вычислений и искусственного интеллекта. Samsung впервые объявила об успешном развитии 5-нм процесса на основе EUV в прошлом году.
Когда новая линия будет готова, у Samsung будет в общей сложности семь контрактных линий по производству чипов, расположенных в Южной Корее и Соединенных Штатах.
Компания начала производство чипов на основе EUV, изготовленных по технологии 7 нм, в 2019 году.
В феврале Samsung начала эксплуатацию своей линии EUV, называемой V1, на своем заводе в Хвасонге, Южная Корея, производя чипы по 7 нм процессу.
По словам Samsung, линейка V1 начнет массовое производство 5-нм чипов в конце этого года.
Южнокорейский технологический гигант является мировым лидером в производстве микросхем памяти, но занимает второе место после Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), когда дело доходит до производства микросхем, называемого литейным производством в полупроводниковой промышленности.
В прошлом году Samsung заявила, что к 2030 году инвестирует 133 триллиона вон, или около 115 миллиардов долларов, в бизнес логических чипов, включая литейный, чтобы стать лидером рынка в этой области.
Источник: